SEMI M44 - シリコン中の酸素の比較係数ガイド -

Abstract

本基準は、global Silicon Wafer Committee で技術的に承認されている。現版は2010年12 月21日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 およびwww.semi.orgで入手可能となる。初版は2001年3 月発行、前版は2005年3 月発行された。

何年にもわたり、 1107 cm - 1 に於ける室温での赤外線吸収ピークから中のシリコン格子間酸素濃度を計算するのに広くの補正係数が世界各地域の標準化開発組織によって標準化されていてそのようなすべての標準は、その後シリコン中の酸素濃度と吸収ピークとの相関をより正確に相関付けしているIOC -88補正係数1,2 を使用する推計が検討されている。それにもかかわらず、多くの古い補正係数が工業界において通用したまま残っている。

このガイドは、シリコン中の格子間酸素測定として1970年以来多くの組織において制定された標準で使用されている比較係数および補正係数をまとめたものである。

SEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語

SEMI MF1188 — 短いベースラインでの赤外線吸収によるシリコンの格子間原子状酸素含有量の試験方法

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