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SEMI M43 - ウェーハナノポトグラフィーを報告するためのガイド -
Volume(s):
Materials
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
このガイドは、Global Silicon Wafer Committee で技術的に承認されたもので、North American Silicon Wafer Committee が直接責任を負うものである。現版は 11月22 日にNorth American Regional Standards Committeeによって承認された。 2000年12月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、2001年3月に発行に至る。
このガイドは、シリコンウェーハに関するナノポトグラフィーの表面特徴を報告するためのフレームワークを提供する。
参照されるSEMI規格SEMI M1 — 単結晶研磨シリコンウェーハの仕様
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