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SEMI M24 - 鏡面単結晶プレミアムシリコンウェーハの仕様 -
Volume(s):
Materials
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、global Silicon Wafer Committee で技術的に承認されている。現版は2006年11 月21日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 で、そして2007年3月にCD-ROMで入手可能となりました。初版は1994年発行、前版は2005年11月に発行されました。
本書が規定するのは、半導体製造工程中における粒子クルカウンティング、金属汚染モニター、およびフォトリソ工程中のパターン解像度測定に使用する公称径150 ～ 300 mmの未使用プレミアムシリコンウェーハの要求仕様である。ウェーハは，上記応用いくつかの項目においてより厳しい規格値を保有している，その他の項目ではプライムウェーハと同等かのためより暖かい規格値を保有している。
参照されるSEMI規格SEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様
SEMI M18 — シリコンウェーハの注文入力のための仕様書フォーム作成ガイド
SEMI M45 — 300 mm ウェーハ出荷システムの暫定仕様
SEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語
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