SEMI F98 - 半導体プロセスにおける再利用水の処理に関するガイド -

Abstract

このガイドでは、次の定義と推奨事項を提供します。 水を再利用する工業用水処理システムの設計 半導体製造施設。共通の事項を確立することを目的としています 設計仕様の作成と計画に関する決定の基礎 水再利用システムの設計。このガイドにはいくつかの考慮事項も含まれています 水再利用システムの運用のため。

このガイドは、半導体工場のエンジニアが使用できます。 およびサプライヤーは、サイト固有の設計と性能の基礎を開発します。 基準。

このガイドは、次の用途に設計された水処理システムに適用されます。 半導体製造施設内での水の再利用。 敷地内のさまざまな用途に使用される水を供給します。そのような アプリケーションには、再利用水を超純水装置のフロントエンドに送ることが含まれます。 水 (UPW) フロントエンド システム、冷却システム、排気スクラバー、ユースポイント (POU) 削減、熱プロセス、および現場の灌漑。再利用の選択 スキームは再利用水の水質、用途の要件、および 環境規制。

このガイドは、設計要素を理解するために使用できます。 水の再利用をサポートする水処理システムの機能。 既存の工場を改修して水の再利用を実現することは可能ですが、 を組み込んだ新しい施設では、より幅広い機会が得られます。 節水用途を設計の基礎にしています。

このガイドの範囲は推奨事項を提供することです 水再利用の分離戦略と考えられる処理オプションについて。

このガイドでは、特定の条件と制限事項を確認します。 水の再利用用途だけでなく、経済的および環境的配慮も含まれます。 また、典型的な廃水組成の参考情報も提供します。

参照されたSEMI規格（別途購入）

SEMI F61 — の設計と運用のためのガイド 半導体超純水装置

SEMI S2 — 環境、健康、安全に関するガイドライン 半導体製造装置

改訂履歴

SEMI F98-0521 (技術改訂)

SEMI F98-0618 (完全な書き換え)

SEMI F98-0305 (再承認 1111)

SEMI F98-0305 (初公開)

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