SEMI F98 - 半導体プロセスにおける用水再処理のためのガイド -

Abstract

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免責事項：このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本基準は、Facility Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年9月12日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2011年11月にwww.semiviews.orgおよびwww.semi.orgで入手可能となる。初版は2005年3月発行。

注意:この文書は、編集上の修正を行い、再承認されました。

これは、そのようなシステムの設計、性能、最適化、および監視に関わる詳細仕様を本ガイドの続文書として作成する際に共通の基盤となることを意図している。

この文書は、現場に固有の仕様および性能判定基準を作成するための土台としてユーザおよびサプライヤが使用できる。

このガイドは、再生やリサイクルも含めて、半導体製造設備で使用される水の再利用のために設計され、様々な用途に給水する水システムに適用される。これにより、超純水システムの前工程、冷却システム、スクラバ、熱処理、そして水利システムへの供給があります。

このガイドを使用して水の再利用をサポートする水システムの設計要素と機能を理解できる。たくさんの機会があります。

SEMI E49 — 高純度および超高純度の配管性能、サブアセンブリ、および最終アセンブリに関するガイド

SEMI F63 — 半導体プロセスで使用される超純水システムのガイド

SEMI S2 — 半導体製造装置の環境、健康、安全に関するガイドライン

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