SEMI F43 - 使用時点のガス精製器およびガスフィルターによる粒子寄与率を測定するための試験方法 -

Abstract

この規格は、ガス世界技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2013 年 6 月 4 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2013 年 6 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になりました。初版は 1999 年 6 月に発行されました。以前は 2008 年 3 月に出版されました。

この文書の目的は、高純度ガス供給システムおよび半導体製造プロセス装置への設置を目的とした POU 精製器およびフィルターのテスト方法を定義することです。この試験方法を適用すると、設置の適格性を確認する目的で試験された POU 清浄器およびフィルター間で同等のデータが得られることが期待されます。

この文書では、標準条件下でテストされた POU 浄化器とフィルターの微粒子発生性能を比較するために設計されたテスト方法について説明します。この手順では、半導体用途で通常使用されるインライン ガス フィルターおよび精製器に適用される凝縮核カウンター (CNC) を利用します。このテスト方法は、さまざまな媒体のデバイスおよび室温動作に適用されます。清浄器の定格流量は、0 ～ 50 標準リットル/分 (slm) の範囲内である必要があります。フィルターの流量は 0 ～ 100 slm の範囲内である必要があります。この方法を高流量装置に使用する場合は、製造元とユーザーがテストパラメータに同意する必要があります。

この方法で説明されている実験セットアップは、POU 清浄器およびスタンドアロン POU フィルターのテストに使用できます。

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