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SEMI F29 - ガスソースシステムパネルのパージ効率の試験方法 -
Volume(s):
Facilities
Language:
English
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
この規格は、ガス世界技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2016 年 12 月 8 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2017 年 5 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 2003 年 9 月に出版されました。以前は 2011 年 6 月に出版されました。
注意: この文書は編集上若干の変更を加えて再承認されました。
この文書は、半導体製造で使用されるガスソースシステムのパージ効率の最小許容レベルを決定するために推奨されるパージ効率テスト方法を定義します。ガス源機器の調達の補助としても活用します。
この試験方法は、半導体製造施設および同等の研究開発分野で使用されるガス源装置に適用されます。これには、ガス源システムの汚染テスト要件が含まれます。
この文書で対象とするテストは次のとおりです。
• メーカーの標準パージシーケンスを使用した非相互作用ガスによるパージ効果。
•試験方法で指定されたパージシーケンスを使用した、非相互作用性ガスによるパージの有効性。
•メーカーの標準パージシーケンスを使用した相互作用ガスによるパージ効果。
•試験方法で指定されたパージシーケンスを使用した、相互作用ガスによるパージの有効性。
参照されるSEMI規格なし。
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