SEMI F28 - プロセスパネルからの粒子発生を測定するための試験方法 -

Abstract

この規格は、ガス世界技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2015 年 5 月 19 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2015 年 8 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 1997 年に出版されました。以前は 2010 年 7 月に出版されました。

注意: この文書は編集上若干の変更を加えて再承認されました。

この文書の目的は、高純度ガス分配システムへの設置を目的としたプロセスパネルの試験方法を定義することです。この試験方法を適用すると、この設備の認定を目的として試験されたプロセス パネル間で同等のデータが得られることが期待されます。

この文書では、プロセスパネルの微粒子発生性能を比較するために設計された試験方法について説明します。この試験方法は、「受け取ったとき」の状態および通常の動作条件下でのプロセスパネルの清浄度を評価します。 「受領時」テストは、ユーザーがプロセス パネルのメーカーの製造、洗浄、および梱包技術を評価できるようにすることを目的としています。実際の動作条件下でのテストは、ユーザーがメーカーのコンポーネントの選択とパネル設計の品質を評価できるようにすることを目的としています。両方の試験方法で説明されている特定の流量は、典型的なプロセス パネルの比較的高い流量条件を表しています。

この試験方法は、粒子計数器の最小検出限界 (MDL) を超える総粒子数に対処するものであり、データをさまざまなサイズ範囲に分類することは考慮されていません。

この手順では、半導体アプリケーションで通常使用されるプロセス パネルに適用されるパーティクル カウンターを利用します。これは、プロセス パネル、不活性パージ パネル、システム ベントを含むプロセス ガス供給システム (ガス キャビネットなど) に適用されます。自動プロセス パネルと手動プロセス パネルの両方がこのテスト手順の範囲内にあります。この試験方法で定義されているパネルは、外径 6.35 mm × 壁 0.89 mm (外径 1/4 インチ × 壁 0.035 インチ) のチューブとコンポーネントで構成されると見なされます。

SEMI F13 — ガス源制御装置のガイド
SEMI F16 — 高純度半導体製造用途向けに仕上げおよび電解研磨される 316L ステンレス鋼チューブの仕様 (撤回 0304)

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