SEMI E176 - 半導体製造環境における電磁干渉 (EMI) を評価し、最小限に抑えるためのガイド -

Abstract

この規格は、Metrics Global Technical Committee によって技術的に承認されました。この版は、2017 年 10 月 3 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2017 年 10 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。

このガイドの目的は、半導体製造環境における電磁干渉 (EMI) の評価と最小化に関するガイダンスを提供し、歩留まり、機器の可用性、およびテスト結果 (テスト時間、測定の関連性、再現性、精度など) を向上させることです。

このガイドは、すべての通信および制御システムを含む、SEMI E33 の範囲に含まれない半導体デバイスの製造目的で提供される装置および施設 (つまり、半導体製造環境内の装置) に適用されます。加工、計測、検査、自動化装置。情報技術機器。

このガイドの主な焦点は半導体製造環境ですが、このガイドは他の関連製品 (太陽光発電 (PV)、フラット パネル ディスプレイ [FPD]、ディスク ドライブ、マイクロエレクトロメカニカルなど) の製造に使用される施設や機器にも適用される場合があります。システム [MEMS])。

一部の用語は半導体製造環境に特化しています。

SEMI E33 — 半導体製造装置の電磁両立性 (EMC) に関するガイド
SEMI E78 — 機器の静電気放電 (ESD) および静電気吸引 (ESA) を評価および制御するためのガイド
SEMI E129 — 半導体製造施設における静電気の評価と制御に関するガイド

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