SEMI E157 - モジュールプロセス追跡の仕様 -

Abstract

この規格は、情報および制御グローバル技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2016 年 5 月 11 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2016 年 6 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 2010 年 6 月に出版されました。以前は 2011 年 6 月に出版されました。

この仕様の目的は、プロセス関連データを工場システムに報告するための標準的な機器機能を定義することです。この仕様の主題は、レシピの実行に関連する処理場所 (つまり、プロセス モジュール) のアクティビティです。

レシピ実行中のプロセス データの収集は、今日の半導体工場にとって、装置プロセス、最終製品の品質、歩留まり、工場全体のパフォーマンスの最適化に役立つさまざまなアプリケーションをサポートするために重要です。

このプロセス データ レポート機能は、工場のアプリケーションに、サンプリングされた時系列データ (トレース) および概要プロセス データを関連するコンテキスト データにリンクする手段を提供します。プロセス モジュールでのレシピの実行を文書化する標準イベントは、そのようなコンテキスト情報の可用性を保証します。コンテキストデータには、プロセスジョブ、装置レシピ、影響を受ける基板の識別などの項目が含まれる場合があります。レポート機能は、レシピ ステップ レベルまでの粒度で、処理の開始および/または終了の記録を提供します。

プロセス モジュール固有のデータ パラメーターのレポートをサポートするには、これらのイベントのレポートはプロセス モジュール固有である必要があります。各プロセス モジュールは通常、異なるコンテキスト セットとプロセス データ パラメーター値を持ちます。すべてのプロセス チャンバに適用される一般イベントは、現在のイベント レポートがどのプロセス モジュールを表しているかに関係なく、同じデータをレポートします。このような一般的なイベントは、各プロセス モジュールから利用可能な固有のデータ パラメーターを取得するために必要な、各プロセス モジュールの異なるデータ セットのレポートをサポートしていません。

この規格は、生産装置内の処理場所 (プロセス モジュール) に直接影響を与える装置レシピの実行部分に関連するデータ収集に適用されます。

この標準は次のことに対処します。

• プロセスモジュールに直接影響する装置レシピの実行
• レシピ実行のためのプロセスモジュール状態モデル
• プロセスデータ収集のためのイベントレポート
• プロセスコンテキストデータパラメータ
• プロセスモジュールに適用される装置レシピコンポーネントとレシピコンポーネントに含まれるレシピステップ

SEMI E5 — SEMI 機器通信規格 2 メッセージ内容 (SECS-II)
SEMI E30 — 製造装置の通信および制御のための汎用モデル (GEM)
SEMI E40 — 処理管理の標準
SEMI E87 — キャリア管理 (CMS) の仕様
SEMI E90 — 基板トラッキングの仕様
SEMI E120 — 共通機器モデル (CEM) の仕様
SEMI E125 — 機器自己記述 (EqSD) の仕様
SEMI E134 — データ収集管理 (DCM) の仕様
SEMI E139 — レシピおよびパラメータ管理 (RaP) の仕様

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