SEMI E146 - シリコンウェーハの保管および輸送に使用される微小環境からの粒子汚染を測定するための試験方法 -

Abstract

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

この規格は、半導体製造におけるシリコンウェーハの保管および輸送に使用されるミニ環境からの微粒子汚染を判定するための試験方法を定義します。

シリコンウェーハの保管および輸送に使用されるミニ環境の微粒子汚染パフォーマンスは、さまざまな保管、輸送、または環境条件下でそのミニ環境にさらされたシリコンウェーハの表面上の一定範囲のサイズ内に追加された粒子の数によって測定されます。

ミニ環境のユーザーと供給者の両方は、このテスト方法で定義されているすべての重要なパラメーターに同意するものとします。例えば、

• シリコンウェーハの保管と輸送に使用されるミニ環境、

• シリコンウェーハがミニ環境にさらされる。

• 可変的な保管、輸送、またはミニ環境の環境テストに使用されるテスト装置。

・シリコンウェーハ表面の微粒子汚染測定に使用される分析装置、

・試験装置および分析装置の周囲の環境条件、および

• 分析装​​置からの粒子汚染測定結果の統計的評価。

これらの定義により、これらのパラメーターを指定するときに、ユーザーとミニ環境のサプライヤー間の通信が同じレベルで行われることが保証されます。

SEMI E15 — ツールロードポートの仕様

SEMI E19.4 — 200 mm 標準メカニカル インターフェイス (SMIF)

SEMI E47.1 — 300 mm ウェーハの輸送および保管に使用される FOUP の暫定機械仕様

SEMI E87 — キャリア管理 (CMS) の仕様

SEMI E91 — プローバー固有機器モデル (PSEM) の仕様

SEMI E103 — FOUPをエミュレートする300 mm枚葉ボックスシステムの機械仕様

SEMI E108 — ガスクロマトグラフィー/質量分析法を使用した微小環境からのガス放出有機汚染の評価のための試験方法

SEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様

SEMI M31 — 300 mm ウェーハの輸送および出荷に使用される前開き輸送ボックスの暫定機械仕様

SEMI M50 — オーバーレイ法による表面走査検査システムの捕捉率と誤計数率を決定するための試験方法

SEMI M52 — 130 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハ用走査表面検査システムの仕様ガイド

SEMI M53 — パターンのない半導体ウェーハ表面への単分散ポリスチレン ラテックス球の堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践

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