
SEMI C3.19 - 水素 (H2) の規格、99.9995% の品質 -
Abstract
注意: この文書は 2005 年に SEMI C58 に置き換えられました。
半導体製造におけるガスの不純物含有量の重要性を認識し、サプライヤーは、特に微量不純物の分析特性が改善された製品を導入することで対応しました。すべての要件を満たす製品は、「SEMI 仕様を満たす」と表現される場合があります。提供された分析手順と異なる分析手順が供給者またはユーザーによって代替された場合、同等性を確認するための立証責任は当該供給者またはユーザーにあります。指定された分析方法を決定する際には、次の基準リストが考慮されたことに注意してください。使いやすさ;メンテナンス;精度;正確さ;感度;多用途性。および機器の可用性。この仕様は、半導体および高度な電子デバイスおよび回路の製造および処理に使用される、99.9995% 品質の水素 (H2) に特有のものです。仕様に適合するガスには通常、最小許容限度よりも多くの主成分が含まれるか、SEMI C3 最大許容限度よりも少ない不純物 (またはいくつかの不純物) が含まれます。いずれの場合も、ガスは仕様で定義されているものよりも高品質とみなされません。これらの仕様および関連手順の目的は、一方では、ガスが半導体デバイスの製造および処理における一般的な用途に適していることを保証することであり、他方では、一貫性を確保することです。そのガスの最新の製造プロセスを使用します。
参照されるSEMI規格なし。
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