SEMI C3 - ガス仕様 -

Abstract

この規格は、ガス世界技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2017 年 2 月 2 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2017 年 3 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 1981 年に出版されました。以前は 2013 年 4 月に出版されました。

半導体製造におけるガスの不純物含有量の重要性を認識し、サプライヤーは、特に微量不純物の分析特性が改善された製品を導入することで対応しました。

SEMI ガス委員会は 1979 年の春に取り組みを開始しました。この出版物により、委員会はインデックスにリストされているガスの定義、一般手順、仕様、および分析手順を確立します。

すべての要件を満たす製品は、「SEMI 仕様を満たす」と表現される場合があります。

提供された分析手順と異なる分析手順が供給者またはユーザーによって代替された場合、同等性を確認するための立証責任は当該供給者またはユーザーにあります。指定された分析方法を決定する際には、次の基準リストが考慮されたことに注意してください。

•信頼性

•使いやすさ

•メンテナンス

•精度

•正確さ

•感度

•多用途性

•機器の利用可能性

この規格によって提供される仕様は、半導体および高度な電子デバイスおよび回路の製造および処理に使用されるガスに役立つことを目的としています。仕様および関連するテスト手順は、サプライヤーとユーザーの経験に基づいたガイドラインです。仕様の役割は、望ましい品質基準を確立することです。

可能な場合、含有量の仕様は、1 モルあたりのモル数 (モル/モル) の数値制限として表現されるものとします。主要成分の場合、値（分析値または純度）は最小許容限界として表されるものとします。不純物については、その値は最大許容値として表されるものとする。仕様に適合するガスには通常、最小許容限度よりも多くの主成分が含まれるか、SEMI C3 最大許容限度よりも少ない不純物 (またはいくつかの不純物) が含まれます。いずれの場合も、ガスは仕様で定義されているものよりも高品質とみなされません。

存在する可能性のあるすべての不純物や汚染物質を考慮することは現実的ではありません。特定のアプリケーションでは、より厳格な、または追加の仕様や手順が必要になる可能性があることが認識されています。これらの仕様および関連手順の目的は、一方では、ガスが半導体デバイスの製造および処理における一般的な用途に適していることを保証することであり、他方では、一貫性を確保することです。そのガスの最新の製造プロセスを使用します。

委員会は、仕様や手順の改善、他のガスや混合ガスなどのシステムの追加に向けた作業を継続しています。委員会はコメント、提案、推奨事項を歓迎します。

なし。

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