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SEMI P47 - 라인엣지라후네스(Line Edge Roughness) および라인후라후네스(Line Width Roughness) 測定の試験方法 -
Abstract
本standared는 글로벌 마이크로 리소그래피 위원회 で技術的に承認されている。現版は2006年11 月21日, global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 2007年2 月にwww.semi.org 에서 ,そして2007年3 月にCD-ROM で入手可能となる。
本文書の目的は,微細ラインパターン形成,特にIC製造の材料およびprosesを評価するために以下にあげる二種類のライン凹凸指標を計算する際の,標準的な手順を定めることである。第一の指標は実際のライン엣지の位置が理想的な(最もよくfittosuる)ライン엣지からどの程度ずれているかに関係し,ラインエッジラフネスと呼ばれるものである.第二の指標は,局所的なline幅の変動を定義し,ライン幅ラフネスと呼ばれる。
참조된 SEMI 표준 SEMI P19 — 집적 회로 제조용 계측 패턴 셀 사양
SEMI P35 - 마이크로리소그래피 계측용 용어
SEMI P36 — 주요 치수 측정 주사 전자 현미경을 위한 배율 기준 가이드라인
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P04700 - SEMI P47 - 라인엣지라후네스(Line Edge Roughness) および라인후라후네스(Line Width Roughness) 測定の試験方法
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