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SEMI P20 - EBレジストパラメータノカタログ公表のgaidline(提案) -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項： このSEMIstandadeは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本가이드라인은 글로벌 마이크로패터닝 위원회で技術的に承認されたもので，일본 마이크로패터닝 위원회が直接責任を負うものである。 현재 일본지역표준위원회にて承認されている。まず， 2003年6月にwww.semi.orgで入手可能になり， 2003年7月発行に至る。初版は1992年発行。
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
本gaidlineの目的は， EBレジストPARAMERICAの公表のための基本を規定する ことである。それはレジスト処理parameterを評価するgaidとしても用することができる。本가이드라인は電子ビームプロセス用に適用し得るよう意図されたものである.
EBレジスト公表用 Parameterを下記に述べる.
참조된 SEMI 표준
없음.
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