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SEMI P6 - 포토마스크용 레지스트레이션마크 -
Abstract
알림: 이 번역본은 참조용 사본입니다. 영어 버전과 다른 언어로 된 번역본 사이에 차이가 있는 경우 영어 버전이 공식적이고 권위 있는 버전입니다.
免責事項： このSEMIstandadeは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
반 スタンダード スタンダード 日本語 スタンダード 版 を ご ご 利用 にあたって にあたって の の 注釈 を 本文 本文 の 末尾 に 記載 記載 し て おり ます ます ます ます 「す べき べき である である」 「し なければなら ない」について 等。。。。。
本standared는 글로벌 마이크로패터닝 위원회で技術的に承認されている。現版は2007年4月25日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された2007年6。にwww.semi.orgで。初版は1988年に発行された。
알림: 이 표준 또는 안전 지침은 현재 상태를 유지하기 위한 조건이 충족되지 않았기 때문에 비활성 상태입니다. 비활성 표준 또는 안전 지침은 SEMI에서 제공되며 계속해서 사용할 수 있습니다.
この仕様は表示目的の ために, フォトマスク上に フォト－리소그라피카르に配置される規定markについて述べるものである。その目的とは,同じ一連のフォトマスク内において，一つのイメージフォトマスクと他のイメージフォトマスクとのレジストレーション精度を決定するものである.
このスタンダードは，すべてのフォトマスクに使用されるレジストレーションマークの形状，sizeの範囲，および一般的配置を定義するものである使用方法は添付のアプリ케이션노트に述べられる（近く配付される予定である）。
참조된 SEMI 표준
없음.
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