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SEMI P45 - マスク装置向けジョブデック・データフォーマットの仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本標準は、global Micropatterning Committee で技術的に承認されている。現版は2008年5月13日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 ，そして2008年7 月にCD-ROM で入手可能となりました。初版は2006年3 月に発行されました。
本標準は、MALYと称するマスク装置向けに共通で使用できる、ジョブデック・データフォーマットの仕様を定義する。
参照されるSEMI規格SEMI P39 — OASISTM – オープン アートワーク システム交換規格
SEMI P44 — マスク ツールに固有の Open Artwork System Interchange Standard (OASISTM) の仕様
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