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SEMI P40 - 極紫外線リソグラフィマスクの取り付けに関する要求条件およびアライメント基準位置の仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、North American Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は、2003年9月3 日North American Regional Standards Committee にて承認されている2003年9 月にまずwww.semi.org で入手可能となり、 2003 年11 月発行に至る。
この仕様は、極紫外線リソグラフィ（ EUVL ）のマスクの取り付けに関する要求条件について記載する。
参照されるSEMI規格SEMI P37 — 極端紫外線リソグラフィーマスク基板の仕様
SEMI P38 — 極端紫外線リソグラフィーマスクブランク上の吸収膜スタックおよび多層の仕様
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