SEMI P39 - OASIS® の仕様 – Open Artwork System Interchange Standard -

Abstract

この規格は、マイクロパターニング グローバル技術委員会によって技術的に承認されました。この版は、2016 年 2 月 1 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2016 年 4 月に www.semiviews.org および www.semi.org で入手可能になります。初版は 2004 年 3 月に出版されました。以前は 2008 年 3 月に出版されました。

この仕様の目的は、階層型集積回路マスク レイアウト情報の交換およびカプセル化フォーマットを定義することです。

背景 — 2001 年の秋、SEMI のデータ パス タスク フォースは、20 年以上レイアウト交換の事実上の標準として IC 業界に提供されてきた由緒ある GDSII Stream フォーマットの後継を定義するワーキング グループを設立しました。古い形式は、16 ビットおよび 32 ビットの内部整数フィールド、セル固有の幾何学的図形の非効率な表現、および高い構造オーバーヘッドによって制限されていたため、最先端の設計で使用することが困難になり、ファイル サイズが大きくなりつつありました。扱いにくく、場合によっては数十ギガバイトにまで増加します。後継フォーマットは、いくつかの全体的な目標を持って策定されました。

• GDSII Stream と比較して、少なくとも 1 桁以上のファイル サイズの向上を達成します。
• 16 ビットおよび 32 ビットの整数幅制限をすべて削除し、新しい形式を完全に 64 ビット対応にします。
• 平らなネイティブ幾何学的図形の大きなペイロードを持つセルを効率的に表現します。
• 設計と製造間でのレイアウト関連情報の交換を容易にする、より豊富な情報パレットを提供します。

SEMI データ パス タスク フォースの設立までの数か月間、International SEMATECH はマスク EDA 問題に焦点を当てた一連の会議を後援しました。タスクフォース参加者の多くはこれらの SEMATECH 会議にも参加しており、これらのセッションから得た多くの有用な情報をこの仕様の定義に引き継ぎました。

この形式は主に、EDA ソフトウェア、マスク書き込みツール、マスク検査/修復ツールなどのシステム間で交換できる階層マスク レイアウトをカプセル化するように設計されています。

この形式は、ハードウェアにもソフトウェアにも依存しないように設計されています。

なし。

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