Japan Store
SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、North American Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は、200 2年8 月29 日North American Regional Standards Committee に承認された。 200 2年9月にまずwww.semi.org で入手可能となり、 200 2 年11 月発行に至る。 初版は2001 年11 月。
本仕様は、極紫外線リソグラフィ（ EUVL ）マスク用の基板に関する一般的な要求条件を記述しています。
参照されるSEMI規格なし。
 |
Interested in purchasing additional SEMI Standards? Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards. |
Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.
0件