
SEMI P32 - フォトレジスト中のトレース金属定量のための試験方法 -
Abstract
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本試験方法は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は2004年7月23日Japanese Regional Standard Committeeにて承認されている。 2004年8月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、 2004年11月発行に至る。初版は1998年9月発行。
注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。
このドキュメントは,トレースメタル濃度に関する定量的な分析方法の概略(概要)を定めている。
このドキュメントは原子吸光分光法,プラズマイオン源質量分光法及び誘導結合プラズマ原子発光分光法のような機器分析によって,フォトレジスト中のトレース金属濃度をppbレベルで測定する事に対して適用する。
この測定での対象金属は、 Al 、Ca 、Cr 、Cu、Fe 、Mg 、Mn 、Ni 、K、 Naである。
金属を追加したり減じる事は,ユーザーとサプライヤの間の合意により,そして測定リストに書きます。
以下に考える方法は,対象のトレースメタルのそれぞれに対して指定した値において,トレースメタルの不純物量を決定するために満足すべき結果を考える。 代替の方法あるいは条件は,仕様値の半分の濃度既知サンプルで、75% ~125%の(分析での)回収率を正しいな研究で証明する限り使える事ができる。その結果は、仕様の範囲内(ある値以下)として、もしかしたら仕様内でないとして報告されるべきである(SEMI C1 )。
参照されるSEMI規格SEMI C1 — 液体化学物質の分析ガイド
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