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SEMI P31 - 化学増型（CA）フォトレジストパラメータのカタログ発行の作業方法 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本作業方法は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は、2004年1月9 日Japanese Regional Standard Committee にて承認されている。 2004年2月にまずwww.semi.org で入手可能となり、 2004年3 月発行に続く。初版は1997 年9 月発行。
本書の目的は、化学改良型（CA：chemical amplified）フォトレジストパラメータ発行のベースラインを提供することである。
参照されるSEMI規格なし。
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