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SEMI P5 - ペリクルの仕様 -
Volume(s):
Microlithography
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本仕様は、Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので、North American Micro lithography Committeeが直接責任を負うものである。現版は、 2004年4 月22 日North American Regional Standards Committee にて承認されている2004年6月にまずwww.semi.org で入手可能となり、2004年7月発行に至る。初版は1986年発行、前版は1994 年発行。
注意: 本書は 2004 年、 SEMI P5 、 SEMI P5.1 、 SEMI P5.2 をまとめて全面的に書き直されました。
本仕様は，フォトリソグラフィ露光システムで使用されるフォトマスクまたはレチクルに使われるペリクルに対する要求項目についての考え方。
参照されるSEMI規格なし。
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