SEMI P1 - ハードサーフェス・フォトマスク用基板 -

Abstract

注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本基準は、global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008年5月13日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2008年6月にwww.semi.orgで初版は1981年、前版は2001年11月に発行されました。

E本スタンダードは2009年6月、編集上の誤りを修正するため改訂された。表A1-1で変更がなされている。

注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。

注意： 本書は2008年に全面的に書き換えられたものです。

この基準は、ハードサーフェス・フォトマスク用ガラス基板の一般的な必要項目について規定する。

本スタンダードでは、7インチ長を上限とする方形フォトマスクを扱っております。

また、本基準は、次の材質に関して仕様を規定する。

• 高熱膨張品（ HTE ）
• 中熱膨張品（ MTE ）
• 低熱膨張品（ LTE ）
• 合成石英（ SFS ）
• 193 nm信頼用高照射耐性合成石英（DSFS ）ガラス

なし。

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