{"product_id":"m09000-semi-m90-test-method-for-bulk-micro-defect-density-and-denuded-zone-width-in-annealed-silicon-wafers-by-optical-microscopy-after-preferential-etching","title":"M09000 - SEMI M90 - 優先エッチング後の光学顕微鏡によるアニールされたシリコンウェーハのバルク微小欠陥密度と無欠陥ゾーン幅の試験方法","description":"\u003cbr\u003e\u003cspan style=\"font-family: Arial, sans-serif; font-size: 10pt;\"\u003eこの規格はバルクマイクロの測定方法を定めています。\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style=\"font-family: Arial, sans-serif; font-size: 10pt;\"\u003eアニールされたシリコンウェーハの欠陥（BMD）密度と無欠陥ゾーン（DZ）幅。これ\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style=\"font-family: Arial, sans-serif; font-size: 10pt;\"\u003e規格では、BMD 密度を測定するための優先エッチング技術について説明しています。\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style=\"font-family: Arial, sans-serif; font-size: 10pt;\"\u003eそしてDZ幅。 BMDとDZ幅は重要な特性の1つです\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style=\"font-family: Arial, sans-serif; font-size: 10pt;\"\u003eゲッタリング能力を意味するアニールされたウェーハのパラメータ。\u003c\/span\u003e\u003cbr\u003e\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eこの規格はBMD密度の測定手法を定義するものです\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eそしてDZ幅。シリコンウェーハをアニールした後、BMD と DZ がシリコンウェーハ内に形成されます。\u003c\/span\u003e\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003e熱処理。この規格で取り上げられる技術は、測定することを目的としています。\u003c\/span\u003e\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eBMD密度は107\/cm3から1010\/cm3の範囲で、DZ幅は最大150μmです。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eこの規格は鏡面仕上げのアニールシリコンに適用されます。\u003c\/span\u003e\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003e比抵抗が0.01Ω・cm以上のサンプル。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eこの規格はBMDの測定技術を定義します\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003e優先エッチング技術を使用して密度と DZ 幅を調整します。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e参照SEMI規格\u003c\/b\u003e（別途購入）\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI MF1809 — エッチング溶液の選択と使用に関するガイド\u003c\/span\u003e\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eシリコンの構造欠陥の輪郭を描く\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e改訂履歴\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\u0026lt;!--nl--\u0026gt;\"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M90-0821 (初公開)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M90-0821 - 現在","offer_id":40234372235331,"sku":"14617","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_92114910-255a-4168-a839-eb4009e53303.png?v=1776701685","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m09000-semi-m90-test-method-for-bulk-micro-defect-density-and-denuded-zone-width-in-annealed-silicon-wafers-by-optical-microscopy-after-preferential-etching","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}