{"product_id":"m06200-semi-m62-シリコンエピタキシャルウェーハの仕様","title":"M06200 - SEMI M62 - シリコンエピタキシャルウェーハの仕様","description":"\u003cp class=\"Indent\" style=\"MARGIN: 0in 21pt 0pt\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e本基準は、global Silicon Wafer Committee \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003eで技術的に承認されている。現\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e版は2009年1月2日、global Audits and Reviews Subcommittee \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003eにて発行が承認された。2009 \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e年2 \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e月にwww.semi.org \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003eで、そして2009年3月にCD-ROM \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003eで入手可能となりました。 \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e初版は2005年\u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e11月発行、前版は2007 \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e年11 \u003cspan style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'\"\u003e月に発行されました。\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/font\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp class=\"Indent\" style=\"MARGIN: 0in 21pt 0pt\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003ch2 style=\"MARGIN: auto 0in\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-WEIGHT: normal; FONT-SIZE: 9pt; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-fareast-language: JA; mso-bidi-font-weight: bold\"\u003eエピタキシャル シリコンウェーハは、多くの集積回路やディスクリート半導体デバイスに使用されている。ある。\u003c\/span\u003e\u003c\/h2\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: auto 0in\"\u003e\u003c\/h2\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003ch2 style=\"MARGIN: auto 0in\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-WEIGHT: normal; FONT-SIZE: 9pt; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-fareast-language: JA; mso-bidi-font-weight: bold\"\u003eさらに，高密度のメモリ回路の要素の寸法をますます縮小するためのテクノロジの進歩により，エピタキシャルウェーハの特性をさらに標準化することに関心が集まっている。\u003c\/span\u003e\u003c\/h2\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: auto 0in\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-WEIGHT: normal; FONT-SIZE: 9pt; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-fareast-language: JA; mso-bidi-font-weight: bold\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-WEIGHT: normal; FONT-SIZE: 9pt; mso-fareast-language: JA; mso-bidi-font-weight: bold\"\u003e\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e \u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/h2\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: auto 0in\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-WEIGHT: normal; FONT-SIZE: 9pt; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-fareast-language: JA; mso-bidi-font-weight: bold\"\u003eこれらの仕様では、ディスクリート半導体デバイスの製造業者および集積回路デバイスの製造業者のそれぞれのためのシリコンエピタキシャルウェーハの例を定義し、記載する。検査手順および検収判定基準を定義することにより、供給ヤとそのお客様はどちらとも製品の特性と品質の要求条件を新たに定義できる。\u003c\/span\u003e\u003c\/h2\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003e\u003cfont\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様\u003cbr\u003eSEMI M17 — ユニバーサルウェーハグリッドのガイド\u003cbr\u003eSEMI M18 — シリコンウェーハの注文入力のための仕様フォーム開発のためのガイド\u003c\/font\u003e \u003cbr\u003eSEMI M33 — 全反射蛍光 X 線分光法 (TXRF) によるシリコンウェーハ上の残留表面汚染の測定のための試験方法\u003cbr\u003eSEMI M35 — 自動検査によって検出されるシリコンウェーハ表面特徴の仕様開発ガイド\u003cbr\u003eSEMI M43 — ウェーハナノトポグラフィーのレポートガイド\u003cbr\u003eSEMI M44 — シリコン内の格子間酸素の換算係数のガイド\u003cbr\u003eSEMI M45 — 300 mm ウェーハ出荷システムの暫定仕様\u003cbr\u003eSEMI M53 — パターンのない半導体ウェーハ表面への単分散ポリスチレン ラテックス球の堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践\u003cbr\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003cbr\u003eSEMI MF95 — 赤外線反射率による同じタイプの基板上のシリコンのエピタキシャル層の厚さの試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF110 — アングルラッピングおよびステイン技術によるシリコンのエピタキシャル層または拡散層の厚さの試験方法 \u003cbr\u003eSEMI MF154 — シリコンの鏡面に見られる構造と汚染物質の特定に関するガイド\u003cbr\u003eSEMI MF374 — 単一構成のインライン 4 点プローブを使用したシリコン エピタキシャル層のシート抵抗の試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF398 — プラズマ共鳴極小値の波長の測定による半導体内の多数キャリア濃度の試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF523 — 研磨されたシリコンスライスの肉眼による検査の実践\u003cbr\u003eSEMI MF525 — 広がり抵抗プローブを使用したシリコンウェーハの抵抗率の測定\u003cbr\u003eSEMI MF534 — シリコンウェーハの反りの試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF657 — 非接触スキャンによるシリコンウェーハの反りおよび総厚さの変動を測定するための試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF672 — 広がり抵抗プローブを使用してシリコンウェーハの表面に垂直な抵抗率プロファイルを測定する試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF723 — ホウ素ドープシリコンおよびリンドープシリコンの抵抗率とドーパント濃度間の変換の実践 \u003cbr\u003eSEMI MF1390 — 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハの反り測定の試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1392 — 水銀プローブを使用した容量電圧測定によるシリコンウェーハの正味キャリア密度プロファイルを決定するための試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1451 — 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハのソリを測定する試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1530 — 自動非接触スキャンによるシリコンウェーハの平坦度、厚さ、総厚さの変動を測定する試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1617 — 二次イオン質量分析法によるシリコンおよびエピ基板上の表面のナトリウム、アルミニウム、カリウム、鉄を測定するための試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1726 — シリコンウェーハの結晶学的完全性の分析の実践\u003cbr\u003eSEMI T3 — ウェーハボックスラベルの仕様\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M62-0413 - 置き換えられました","offer_id":40234363781187,"sku":"9703","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M62-0912 - 置き換えられました","offer_id":40234363846723,"sku":"9709","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M62-0712 - 置き換えられました","offer_id":40234363879491,"sku":"9707","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M62-1111 - 置き換えられました","offer_id":40234363945027,"sku":"9714","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M62-0309 - 置き換えられました","offer_id":40234363977795,"sku":"9701","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_9c872755-1bfd-43c6-b69e-05d2ab337ac3.png?v=1776702035","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m06200-semi-m62-%e3%82%b7%e3%83%aa%e3%82%b3%e3%83%b3%e3%82%a8%e3%83%94%e3%82%bf%e3%82%ad%e3%82%b7%e3%83%a3%e3%83%ab%e3%82%a6%e3%82%a7%e3%83%bc%e3%83%8f%e3%81%ae%e4%bb%95%e6%a7%98","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}