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SEMI M58 - DMAを基にしたパーティクル積システムとプロセス評価のためのテスト方法 -
Volume(s):
Materials
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
本基準は、global Silicon Wafer Committee で技術的に承認されている。現版は2009年9月4日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。2009 年10 月にwww.semi.org で、そして2009 年11月にCD-ROM で入手可能となりました。初版は2004年7 月に発行されました。
SEMI M52は、走査型表面検査システム（ SSISs: 走査面検査システム）の補正のため、認証された標準試料（ CRMs: 認定標準物質）の使用を要求している。補正方法は、 SEMI M53 で規定本テスト法は、差分移動度解析器（ DMA: Differential Mobility Analyzer ）を用いた特定のパーティクル蓄積システムが、要求されているCMR を作成出来るかどうか決定する手順を提供する。
自家使用のため内部で堆積を行う組織，および販売目的で堆積物を製造する会社は共に，彼らのパーティクル堆積システムがSEMI M52の要求を満たす堆積を保証するため，本テスト方法を適用することが出来る。
参照されるSEMI規格SEMI M50 — オーバーレイ法による表面走査検査システムの捕捉率を決定するための試験方法
SEMI M52 — 130 nm、90 nm、65 nm、および 45 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハ用走査表面検査システムを指定するためのガイド
SEMI M53 — パターンのない半導体ウェーハ表面への単分散基準球の堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践
SEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語
SEMI ME1392 — 鏡面または拡散面での角度分解光学散乱測定のガイド
SEMI MF1811 — 表面プロファイルデータからパワースペクトル密度関数および関連仕上げパラメータを推定するためのガイド
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