{"product_id":"m05300-semi-m53-practice-for-calibrating-scanning-surface-inspection-systems-using-certified-depositions-of-monodispere-reference-spheres-on-unpatterned-semiconductor-wafer-surfaces","title":"M05300 - SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面上の単分散基準球の認定された堆積を使用した走査表面検査システムの校正の実践","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの実習では、走査面のキャリブレーションについて説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e検査システム (SSIS) の暗視野検出器チャネルにより、SSIS は\u003c\/span\u003e\n \nパターンのない表面に蒸着されたポリスチレン ラテックス (PSL) 球の正確なサイズ\n\n研磨された、エピタキシャル、または膜が形成された半導体ウェーハ表面。 \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのキャリブレーションの目的は、異なることを確認することです。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e特定のメーカーとモデルの SSIS には同じ光散乱が割り当てられます。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e特定の局所光散乱体 (LLS) に相当する (LSE) 直径。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの実践では、定義されている LSE 直径の使用を定義します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M59 では、実際の表面欠陥を報告する手段として、その正体が真実である\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e大きさや形態は不明。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref441767004\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eこれ\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref441767004\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e実践により、関連分野で使用される SSIS パフォーマンスを定量化するための基礎が提供されます。\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref441767004\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e感度、再現性などのパラメータに関する規格\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref441767004\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e捕獲率。\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの演習では次の内容を扱います。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cul\u003e\n\n\u003cli\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e表面およびその他の特性の要件\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e基準球が堆積される半導体基板\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e基準ウェーハを形成し、\u003c\/span\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\n \u003cli\u003e\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e適切な認証済み参考文献の選択\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSSIS キャリブレーション用の球体（サイズ分布要件を含む）\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e基準球堆積では満たされるが、堆積方法では満たされない、\u003c\/span\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\n\u003cli\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eモデル予測を使用した検量線の生成\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e応答曲線が振動するため単調ではない散乱データ、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eと\u003c\/span\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\n\u003cli\u003e\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eを使用した単調検量線の生成\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eモデルが予測した散布データ。\u003c\/span\u003e\n\u003c\/li\u003e\n\n\n\u003c\/ul\u003e\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e主にキャリブレーションでの使用を目的として開発されましたが、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e研磨されたシリコンウェーハ上の LLS の検出に使用される SSIS の数\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M1 で指定されている幾何学的特性に基づいて、この実践を行うことができます。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSSIS に適用され、他のパターン化されていない LLS の検出に使用されます。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eただし、適切な基準ウェーハが使用される場合に限ります。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの実践は、いかなる形でも、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eLSE 値を使用して、LLS の実際のサイズを定義する方法。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003ePSL球体。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのプラクティスは、SEMI M52 にリストされている要件をサポートしています。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e付録 1 では、次のことを決定するために使用できる方法について説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003ePSL ではない参照球の屈折率。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e参照SEMI規格\u003c\/b\u003e（別途購入）\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eウエハース\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M12 — シリアル英数字マーキングの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eウェーハの表面\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M20 — ウェーハ座標を確立するための実践\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eシステム\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M50 — 捕捉率および捕捉率を決定するための試験方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eオーバーレイ法による表面走査検査装置の誤計数率\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M52 — 走査面検査指定ガイド\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e130 nm ～ 11 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハ用システム\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M58 — DMA ベースの粒子を評価するための試験方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e蒸着システムとプロセス\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e改訂履歴\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0220 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0219 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0418 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0216 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0310 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-1109 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0309 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0706 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0306 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e \n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-1103 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53-0303 (初公開)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M53-0220 (Reapproved 0125) - Current","offer_id":43106892054595,"sku":"18205","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0220 - Superseded","offer_id":43106892087363,"sku":"13764","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0219 - 置き換えられました","offer_id":40234310336579,"sku":"13537","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0418 - 置き換えられました","offer_id":40234310369347,"sku":"4866","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0216 - 置き換えられました","offer_id":40234310434883,"sku":"9637","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0310 - 置き換えられました","offer_id":40234310500419,"sku":"9642","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-1109 - 置き換えられました","offer_id":40234310565955,"sku":"9648","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0309 - 置き換えられました","offer_id":40234310631491,"sku":"9640","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0706 - 置き換えられました","offer_id":40234310697027,"sku":"9645","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0306 - 置き換えられました","offer_id":40234310762563,"sku":"9639","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-0303 - 置き換えられました","offer_id":40234310828099,"sku":"9638","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M53-1103 - 置き換えられました","offer_id":40234310893635,"sku":"9647","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_83418d33-d09c-4de0-aad5-6924171b58c0.png?v=1776702609","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m05300-semi-m53-practice-for-calibrating-scanning-surface-inspection-systems-using-certified-depositions-of-monodispere-reference-spheres-on-unpatterned-semiconductor-wafer-surfaces","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}