{"product_id":"m05300-semi-m53-パターンのない半導体ウェーハ表面上に証明済み手法で付着した単分散標準粒子を用いた走査型表面検査システム較正の作業方法","title":"M05300 - SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面に証明済み手法で蓄積した単分散標準粒子を用いた走査型表面検査システム比較正の作業方法","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e免責事項：このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003eSEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e本基準は、Silicon Wafer Global Technical Committee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで技術\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e的に承認されている。現版は2010年1月20日、global Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにて発行が承認された\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e。 org\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで入手可能となる。初版\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eは2003年3\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月発行、前版は2009\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年11\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月に発行された。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eこの作業方法では，パターンのない鏡面，エピタキシャル，薄膜生成された半導体表面に付着されたPSL（ポリスチレンラテックス）粒子のサイズを走査型表面検査システム（以下SSIS \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e）が正確に決定できるように，SSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの暗視検出器チャンネルの検討について正しく。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e本カタログの正の目的は、製造者およびモデルの異なるSSISが特定の局所光散乱体（LLS）に同じ光散乱強度の等価光散乱(LSE)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e直径を優先すること、保証することである。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法は，材質同定，真の寸法，形態が未知の表面欠陥を報告する手段\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eとして，SEMI M59\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに規定されたように，LSE\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e直径の使用を定義する。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eこの作業方法では，SSIS のパフォーマンスを定量化するための基礎を提供する。 。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法では、次の事項を考えます。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e標準粒子が付着されるか正基準半導体ウェーハの表面およびその他の特性に対する要求条件\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e(¶ 8.1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e参照)。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e標準粒子付着に適した粒子のサイズ分布要求条件も含めて、SSIS を校正するための標準粒子の適切で証明済み付着の選択\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e応答曲線の変動があるが故に単調ではない，モデルで予測した散乱乱データを使用した比較正曲線の生成。\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eモデルで予測した散乱乱データを使用した単調な予測の生成。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eこれは、主としてSEMI M1で指定されている幾何学的特性を持っている研磨シリコンウェーハ局の光散乱乱体(LLS)の検出に使用されるSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eのカタログを正に使用するために開発されたが、適切な基準ウェーハが採用されるという条件で，この作業方法はパターンのない他の半導体表面のLLS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの検出に使用されるSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにも適用できる。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eこの作業方法は，LSE 値を使用して PSL 球以外の LLS のサイズを決定する方法を定義する意図は全くありません (¶ 3.1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eを参照)。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法は、 \u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSEMI M52\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに記載されている要求条件をサポートする。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e付属書1では、限定された生産用途に使用できるシングルポイント較正について説明するが、SEMI M52\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに記載されている要求条件はサポートされていません。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e別\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e書2\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eではPSL\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eではない標準粒子の分散率を決定する方法について説明しています。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont face=\"Arial\"\u003e\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003cp\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont face=\"Arial\"\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様\u003cbr\u003eSEMI M12 — ウェーハ前面のシリアル英数字マーキングの仕様\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e \u003cbr\u003eSEMI M20 — ウェーハ座標系確立の実践\u003cbr\u003eSEMI M50 — オーバーレイ法による表面走査検査システムの捕捉率と誤計数率を決定するための試験方法\u003cbr\u003eSEMI M52 — 130 nm、90 nm、65 nm、および 45 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハ用走査表面検査システムを指定するためのガイド\u003cbr\u003eSEMI M58 — DMA ベースの粒子堆積システムおよびプロセスを評価するための試験方法\u003cbr\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003cbr\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M53-0310 - 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