{"product_id":"m05200-semi-m52-guide-for-specifying-scanning-surface-inspection-systems-for-silicon-wafers-for-the-130-nm-to-11-nm-technology-generations","title":"M05200 - SEMI M52 - 130 nm ～ 5 nm テクノロジー世代のシリコンウェーハ用走査表面検査システムの仕様ガイド","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのガイドでは、スキャンを指定するための推奨事項を説明します。\u003c\/span\u003e\n \n130、90、65、45、32、22、16、11、7、\n\nそして5nmテクノロジー世代。局所的な光の数とサイズ\n\nシリコンウェーハ上の散乱体 (LLS) はシリコンウェーハサプライヤーの顧客によって指定されます。\n\nこれらは通常、準拠証明書の一部です。シリコンウェーハのサプライヤー\n\nそして顧客は測定システムを使用してこれらのパラメータを測定する可能性があります\n\nそのようなシステムのさまざまなメーカーによって提供されているか、さまざまなシステムを使用しています\n\n1 つのサプライヤーから何世代もの測定システムを提供できます。したがって、\n\nこのような測定システムのさまざまな側面を標準化することにより、両方の改善が行われます。\n\nデータ交換とデータ解釈、および適切なデータの調達を支援します。\n\n測定システム。 \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのガイドでは、基本仕様の概要と推奨事項を説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e130、90、65、45、32、22、16、11、7、5 nm に使用される SSIS 装置\u003c\/span\u003e\n \nテクノロジーの世代。 130 ～ 11 nm 世代の推奨事項は次のとおりです。\n\nこのガイドの以前のバージョンから変更されていません。 7 nm および 5 nm ノードの特性\n\n2018 年版のデバイスに関する国際ロードマップから引用されており、\n\nシステム (IRDS) は、国際技術ロードマップの後継です。\n\n半導体 (ITRS)。 \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eの\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eガイドでは、一般的な装置の特性 (表 1)、使用する材料について説明します。\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e(表 2) によって測定され、計測特有の機器特性\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e(表 3) 品質パラメータ LLS の検証に使用される測定システム\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eベアポリッシュまたはエピタキシャルの大規模生産におけるウェーハあたりのカウント\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref473887810\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eシリコンウェーハの表面（裏面は研磨または酸処理されている可能性があります）\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n \nエッチングされ、露出しているか、パターンのない均質な層で覆われています。\n\nポリシリコンまたは低温酸化物（LTO） \u003cspan style='font-size: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; 10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e。参考資料\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; 10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003e測定システムを校正する場合、異なる特性を持つ可能性があります。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのガイドは、次のような測定システムにも適用されます。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e表 3 に概要を示した測定機能のサブセットのみです。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこのガイドは、以下の目的で使用される測定システムには適用されません。\u003c\/span\u003e\n \nシリコンウェーハ製造中の中間プロセスステップを制御します。しかし、\n\nそれらの測定システムに完全または部分的に使用される場合があります。\n\n対応する制約が適切に識別されている場合には、アプリケーションに適用されます。 \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref471631975\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eこれ\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref471631975\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eこのガイドは、シリコン・オン・インシュレーター (SOI) ウェーハの測定システムには適用されません\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style=\"mso-bookmark:_Ref471631975\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family:\"Arial\",sans-serif'\u003eまたはパターン付きウェーハ。\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e参照SEMI規格\u003c\/b\u003e（別途購入）\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n \n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E1.9 — 使用されるカセットの機械的仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e300 mm ウェーハの輸送と保管\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E5 — SEMI機器通信の仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e標準2メッセージ内容（SECS-II）\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E10 — の定義と測定に関する仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e機器の信頼性、可用性、保守性 (RAM) と使用率\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E19 — 標準メカニカルインターフェースの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e(SMIF)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E30 — の汎用モデルの仕様\u003c\/span\u003e\n \n製造装置の通信と制御 (GEM)\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E37 — 高速 SECS メッセージの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eサービス (HSMS) 汎用サービス\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E47 — 150 mm\/200 mm ポッド ハンドルの仕様\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E47.1 — 使用されるFOUPの機械的仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e300 mm ウェーハの輸送と保管\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E58 — 自動化された信頼性、可用性、および\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e保守性標準 (ARAMS): 概念、動作、およびサービス\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E89 — 測定システム分析 (MSA) のガイド\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E158 — 工場の機械的特徴の仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e450 mm ウェーハ (450 FOUP) の搬送と保管に使用されるウェーハ キャリア\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eキネマティックカップリング\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E159 — マルチの機械的特徴の仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e450 mm ウェーハの輸送および出荷に使用されるアプリケーション キャリア (MAC)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eウエハース\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M31 — 機械的特徴の仕様\u003c\/span\u003e\n \n300 mm ウェーハの輸送および出荷に使用される前開きの輸送ボックス\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M33 — 残留物測定のための試験方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e全反射X線によるシリコンウェーハの表面汚染\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e蛍光分光法 (TXRF)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M35 — シリコン仕様開発ガイド\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e自動検査で検出されるウェーハ表面の特徴\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M38 — 研磨再生シリコンの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eウエハース\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M50 — 捕捉率および捕捉率を決定するための試験方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eオーバーレイ法による表面走査検査装置の誤計数率\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n \n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M53 — 走査面の校正の練習\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e単分散ポリスチレンの認定蒸着を使用した検査システム\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eパターン化されていない半導体ウェーハ表面上のラテックス球\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M58 — DMA ベースの粒子を評価するための試験方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e蒸着システムとプロセス\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M80 — 前開き配送ボックスの仕様\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e450 mm ウェーハの輸送および出荷に使用\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e改訂履歴\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M52-0621 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M52-0214 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M52-0912 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI M52-0412 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; 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