{"product_id":"m05100-semi-m51-シリコンウェーハ評価のためのsio2の即時絶縁破壊特性tzdbの試験方法","title":"M05100 - SEMI M51 - シリコンウェーハ評価のためのSiO2の即時絶縁破壊特性（TZDB）の試験方法","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e本基準は、グローバルシリコン\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eウェーハ技術委員会で技術\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e的に承認されている。現\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e版は2012年8月30日、グローバル監査審査小委員会\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eにて発行が承認された\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e。 org \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eおよび\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003ewww.semi.org \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eで入手可能となる。初版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e2002年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e7 \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月発行。前版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2003 \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e3 \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月発行。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e注意： 本書は、 \u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2012 \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年に全面的に改訂されたものです。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e本テスト方法は，Gate Oxide Integrity（GOI）によるウェーハ品質評価法に関するものである。 GOIはシリコン基板中に存在するCOPを検出するために用いられてきたが，よく知られているように表面に\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e存在する欠陥検出の画で非常に高い感性である。そのためGOI測定は，ウェールハメーカやデバイスメーカにおいて広く用いられている手法である。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eSEMIM60には、経時絶縁\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e破壊特性（ TDDB ）による\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e評価法記述がある。 \u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTDDB \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eは酸化\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e膜\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e欠陥モード分類を行うGOI測定方法である。 \u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e評価\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eするのに対して，TZDB は酸化膜欠陥のモード分類を行い， \u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e手法評価として重要な方法である。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e本テスト方法は，TZDB法を用いたウェーハGOI品質評価法に関するものである。本テスト基準では，金属酸化膜半導体（MOS）キャパシタ作成，電気特性評価，解析及びデータ取り込みについてまとめて記載されている。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eMOS キャパシタ\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eには，熱酸化によるゲート\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e酸化膜を用いた厚さ範囲は20-25nm程度である。また、電極材料としては、多結晶シリコンを採用した。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e酸素溶出物も絶縁破壊耐圧劣化の原因となるが、購入直後のウェーハでは、通常酸素溶出物はほとんど含まれておらず、GOIへの影響はほとんどない。しない。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003eSEMI C3.6 — シリンダー内のホスフィン (PH \u003csub\u003e3\u003c\/sub\u003e ) の仕様 99.98% の品質\u003cbr\u003eSEMI C3.55 — シラン (SiH \u003csub\u003e4\u003c\/sub\u003e )、バルク、99.994% 品質の仕様\u003cbr\u003eSEMI C21 — 水酸化アンモニウムの仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C27 — 塩酸の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C28 — フッ化水素酸の仕様 \u003cbr\u003eSEMI C30 — 過酸化水素の仕様\u003cbr\u003eSEMI C35 — 硝酸の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C38 — オキシ塩化リンのガイド\u003cbr\u003eSEMI C41 — 2-プロパノールの仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C44 — 硫酸の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C54 — 酸素の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C58 — 水素の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C59 — 窒素の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI F63 — 半導体プロセスで使用される超純水のガイド\u003cbr\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様\u003cbr\u003eSEMI M59 — シリコンテクノロジーの用語\u003cbr\u003eSEMI M60 — Si ウェハ評価用の SiO \u003csub\u003e2\u003c\/sub\u003e膜の時間依存性絶縁破壊特性の試験方法\u003cbr\u003eSEMI MF1771 — 電圧ランプ技術によるゲート酸化膜の完全性を評価するための試験方法\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M51-1012 - 現在","offer_id":40234316005443,"sku":"4864","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M51-0303 - 置き換えられました","offer_id":40234316070979,"sku":"9627","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_1764b257-d5ba-438d-bbc9-e0da5c81baa1.png?v=1776702505","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m05100-semi-m51-%e3%82%b7%e3%83%aa%e3%82%b3%e3%83%b3%e3%82%a6%e3%82%a7%e3%83%bc%e3%83%8f%e8%a9%95%e4%be%a1%e3%81%ae%e3%81%9f%e3%82%81%e3%81%aesio2%e3%81%ae%e5%8d%b3%e6%99%82%e7%b5%b6%e7%b8%81%e7%a0%b4%e5%a3%8a%e7%89%b9%e6%80%a7tzdb%e3%81%ae%e8%a9%a6%e9%a8%93%e6%96%b9%e6%b3%95","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}