{"product_id":"m00400-semi-m4-specifications-for-sos-epitaxial-wafers","title":"M00400 - SEMI M4 - SOS エピタキシャルウェーハの仕様","description":"\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003eこの規格は、世界的なシリコンウェーハ委員会によって技術的に承認されました。この版は、2006 年 11 月 21 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって発行が承認されました。2007 年 2 月に www.semi.org で入手可能になりました。初版は 1978 年に発行されました。以前は 2003 年 11 月に出版されました。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e注意: この文書は 2007 年に投票され、撤回が承認されました。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003eこれらの仕様は、半導体デバイスの製造に使用される、サファイア基板上の単結晶シリコン エピタキシャル層の要件をカバーしています。サファイア基板上のシリコンエピタキシャル層の組み合わせは、シリコンオンサファイア（SOS）エピタキシャルウェーハとして知られています。検査プロセスの概要を示し、さまざまな不合格基準を定義することにより、サプライヤーと購入者の両方がエピタキシャル層の品質を均一に定義できます。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003e\u003cfont\u003eSEMI M3 — 研磨単結晶サファイア基板の仕様\u003cbr\u003e\u003cfont\u003eSEMI MF81 — シリコンウェーハの半径方向抵抗率変化を測定するための試験方法\u003cbr\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M4-1103 (撤回 0307) - 撤回 - 歴史的","offer_id":40234361618499,"sku":"9580","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_3a829556-70f4-429e-ad4c-865dfa23c002.png?v=1776702046","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m00400-semi-m4-specifications-for-sos-epitaxial-wafers","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}