{"product_id":"m00300-semi-m3-specifications-for-polished-monocrystalline-sapphire-substrates","title":"M00300 - SEMI M3 - 研磨単結晶サファイア基板の仕様","description":"\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003eこの規格は、世界的なシリコンウェーハ委員会によって技術的に承認されました。この版は、2007 年 4 月 25 日にグローバル監査およびレビュー小委員会によって出版が承認されました。2007 年 6 月には www.semi.org で入手可能になりました。初版は 1978 年でした。以前は 2004 年 3 月に出版されました。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e注意: この文書は 2007 年に投票され、撤回が承認されました。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\" size=\"2\"\u003eサファイア基板は、特定のタイプのデバイス構造のシリコン膜のヘテロエピタキシャル成長に利用されます。フィルムの特性は、使用される基板の特性に部分的に依存します。これらの仕様は、デバイス製造に適した膜の成長に必要な基準の仕様を提供することを目的としています。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003e\u003cfont\u003eSEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様\u003cbr\u003e\u003cfont\u003eSEMI MF26 — 半導体単結晶の配向を決定するための試験方法\u003cbr\u003e\u003cfont\u003eSEMI MF523 — 研磨されたシリコンウェーハ表面の肉眼による検査の実践\u003cbr\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M3-0304 (撤回 0707) - 撤回 - 歴史的","offer_id":40234361716803,"sku":"9546","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_033a4bd5-e842-4bf2-8036-289eaf757f20.png?v=1776702057","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/m00300-semi-m3-specifications-for-polished-monocrystalline-sapphire-substrates","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}