
SEMI F55 - マスフローコールの耐腐食性を求めるための試験方法 -
Abstract
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免責事項:このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。
SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。
本基準は、Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日、global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。 2012年4月にwww.semiviews.orgおよびwww.semi.orgで入手可能となる。初版は2000年6月発行。前版は2007年3月発行。
注意:この文書は、編集上の修正を行い、再承認されました。
マスフロープロセッサ( MFC )は、好ましくない条件のもとで腐食性ガスを制御するために使用されることが多い。区別するのに正しいことを意図している。
範囲
この試験は、HClなどの腐食性ガスが大気中の水分などの酸化剤によって汚染されている場合がある。が,他のガスでもこの試験を実施することができる。この試験方法では,MFCを対象とした腐食性ガス暴露試験について説明する。この試験は,半導体産業で使用されるプロセス装置とガスシステムの内部に見られる状態をシミュレートしながら,腐蝕を加速することを意図している。 腐蝕と性能の関係はMFC設計によって異なる場合があるため,腐蝕は直接測定されない。の補正における変化と他の動作パラメータを観察することによって検出する。
参照されるSEMI規格SEMI F1 — 高純度ガス配管システムおよびコンポーネントのリーク完全性に関する仕様
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