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SEMI F35 - 非浸入式酸素測定を使用した超高純度ガス分配システムの安全性を確認するためのテスト方法 -
Volume(s):
Facilities
Language:
Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract
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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。
SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。
本試験方法は、Global Gases Committee で技術的に承認されたもので、North American Gases Committee が直接責任を負うものである。 現版は2003年12月4日North American Regional Standards Committeeにて承認されている2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能となり、 2004年3月発行に続く。初版は1998年発行。
注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。
本試験方法は，大気中の酸素の浸入を検出することによって，超高純度（ UHP ）ガス分配システムの完全性を監視する手順について規定する。 使用したプロセス装置の中断を必要とせずに、非浸漬式のO 2測定を使用することによって、「活動中」 UHPガス分配システムを継続的に評価するために使用される。
本テスト方法は、ＵＨＰガスを使用する半導体製造プロセスを保護するために使用すべきである。 ような、いずれかの共通大気不純物による汚染からも影響を受けやすい場合がある。
非浸入式の漏れ検出と位置決めの手順について解説が行われたのは、本テスト方法が最初である。浸入式技術であるSEMI F1とは異なります。
本テスト方法は、半導体製造設備や同等の研究開発分野で使用されるUHPガス分配システムに適用される。
本テスト方法は、 N 2 、 Ar 、 He 、 H 2 、 N 2 O 、 SF 6 、および多くのハロゲン炭素化合物のような UHP ガスを運ぶ大量のガス分配システムに適用される。 2は、超微量レベル（一般に1.0 ppb未満）でのみ存在する。
このテスト方法では、ＵＨＰガス分配システムについて一時的な監視を行うことができる。その結果、慎重なシステムの完全性の確認、大気汚染物質の傾向分析、及び漏洩箇所の突き止めが可能である。
このテスト方法を使用して、ユーザーは、UHP ガス分配システム内への大気の漏れ源を特定してトラブルシューティングを行うための、十分な情報を得ることができます。
本テスト方法には，必要とされるO 2 分析装置の仕様，O 2分析装置を正しく使用するための標準的方法，および大気の漏れ源を特定するためのO 2データ操作などが含まれる。
参照されるSEMI規格SEMI F1 — 高純度ガス配管システムおよびコンポーネントのリーク完全性に関する仕様
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