{"product_id":"e18000-semi-e180-test-method-for-measuring-surface-metal-contamination-through-icp-ms-of-critical-chamber-components-used-in-semiconductor-wafer-processing","title":"E18000 - SEMI E180 - 半導体ウェーハ処理に使用される重要なチャンバーコンポーネントの ICP-MS による表面金属汚染測定の試験方法","description":"\u003cp class=\"StdsH2\"\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書では、定量的な方法について説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e誘導結合プラズマ質量を使用した、重要なチャンバーコンポーネント (CCC) の表面微量金属濃度の分析\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e分光分析 (ICP-MS)。この規格はコミュニケーションを促進することを目的としています\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eユーザーと加工装置のサプライヤーの間で。も使用できます\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e表面の金属汚染に関するより良いコミュニケーションを促進するため\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e加工装置サプライヤーとの間での期待とそのテスト方法\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eCCCのメーカーです。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書では、微量金属の処理手順について説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eCCC からの表面微量金属収集を含む測定。\u003c\/span\u003e\n \n測定データの信頼性と各テストの再現性に影響します。\n\n施設。 \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書の使用は、以下の一貫性を確保することです。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e各処理装置サプライヤーまたはCCCからの結果報告\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eメーカー。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書は表面の測定に適用されます。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eICP-MS による CCC (シャワーヘッド、ペデスタルなど) の微量金属濃度。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書は、未使用の CCC またはその部品に適用されます。\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eこの文書では、ローカル抽出と完全浸漬について説明します。\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e微量金属回収技術。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e今回の測定の対象金属はアルミニウム（Al）、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eナトリウム(Na)、カリウム(K)、カルシウム(Ca)、リチウム(Li)、鉄(Fe)、銅(Cu)、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eニッケル（Ni）、クロム（Cr）、コバルト（Co）、チタン（Ti）、マグネシウム（Mg）、\u003c\/span\u003e\n\n \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e亜鉛（Zn）。\u003c\/span\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e参照SEMI規格\u003c\/b\u003e（別途購入）\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI C10 — 検出方法の決定に関するガイド\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e限界\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI C16 — 精度とデータレポートの実践のためのガイド\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI F63 — 半導体で使用される超純水のガイド\u003c\/span\u003e\n\n\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e処理\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003e\u003cb\u003e改訂履歴\u003c\/b\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e\u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E180-1220 (技術改訂)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\n\n\n\u003cp class=\"MsoNormal\"\u003e \u003cspan style='font-size:10.0pt;line-height:107%;font-family: \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \u0026lt;!--nl--\u0026gt; \"Arial\",sans-serif'\u003eSEMI E180-1219 (初公開)\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cbr\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI E180-1220 - 現在","offer_id":40234368925763,"sku":"14359","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI E180-1219 - 置き換えられました","offer_id":40234368958531,"sku":"13666","price":31900.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/EVolume_02880b14-6210-4273-b575-64bd3c47377f.png?v=1776701792","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/ja-jp\/products\/e18000-semi-e180-test-method-for-measuring-surface-metal-contamination-through-icp-ms-of-critical-chamber-components-used-in-semiconductor-wafer-processing","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}