{"product_id":"e04500-semi-e45-気相分解-全反射x線分光法-vpd-txrf-気相分解-原子吸収分光法vpd-aas-気相分解-誘導結合プラズマ質量分光法-vpd-icp-ms-を使用したミニエンバイロメントからの無機汚染分析のための試験方法","title":"E04500 - SEMI E45 - 気相分解－全反射Ｘ線分光法 (VPD\/TXRF)、気相分解－原子吸収分光法(VPD\/AAS)、気相分解－誘導結合プラズマ質量分光法 (VPD\/ICP- MS)を使用したミニエンバイロメントからの無機汚染分析のための試験方法","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e注意: この翻訳は参考コピーのみです。英語版と他の言語の翻訳との間に差異がある場合、英語版が正式かつ正式なバージョンとなります。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e免責事項：このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。ある場合には英語版記載内容が優先されます。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eSEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用いただく際の注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e本基準は、Metrics Global Technical Committee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで技術的に承認されている。現\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e版は2001年8月27日、global Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにて発行が承認された。 \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e2001年9\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月にwww.semi.org\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e初版は\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e1995年発行、前版は2001\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年3\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月発行。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e注意: 現在のステータスを維持するための条件が満たされていないため、この規格または安全ガイドラインは非アクティブなステータスになっています。非アクティブな規格または安全ガイドラインは SEMI から入手でき、引き続き使用できます。\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本試験方法は，ミニエンバイロメントによる無機質汚染レベルを決定するための分析手順を提供するものである。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこれらの不純物は、原子、分子または粒子クルとして存在するかのように、金属汚染物を含む。 \u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e速やかに特性をつけるために(Na) 、カルシウム(Ca) 、鉄(Fe) 、銅(Cu \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e)の4種類に限定する。Na \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e、Ca \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e、Fe\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eは人体源(Na) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e、環境(Ca)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eまたは装置\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eと腐食作用 (Fe) からの汚染に関して非常に有害な不純物を代表するが，Cu は半導体製造において益々重要性を増しているため分析される。回路およびデバイスに不適当なウェーハ表面金属汚染元素を表1 (SEMI M1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに基づく)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに示している。ウェーハ表面の無機汚染は、VPD\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで収集される。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e \u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eCaおよびFeの定量には，その検出限界が十分低いのでVPD\/TXRFが使用される。NaおよびCuは，VPD-GFAAS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eまたはVPD\/ICP-MS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで定量される。清浄度の特性付けを行うために広く使用されています。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本測定技術は，ミニエンバイロメントに対するプロセスステップの影響をチェックするためにも使用できる。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e \n\u003cb\u003e参照されるSEMI規格\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003eSEMI C28 — フッ化水素酸の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI C35 — 硝酸の仕様とガイドライン\u003cbr\u003eSEMI E19 — 標準メカニカルインターフェース (SMIF)\u003cbr\u003e SEMI M1 — 研磨単結晶シリコンウェーハの仕様\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI E45-1101 (再承認 0307) - 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