SEMI C3 - ガスの仕様 -

Abstract

本基準は、global Gases Technical Committee で技術的に承認されている。現版は2012年6月18日、global Audits and Reviews Subcommittee にて発行が承認された。 およびwww.semi.orgで入手可能となる。初版は1981年発行。前版は1999年6月発行。

重要な注意

半導体におけるガス不純物の内容の重要さを認識して、供給ヤは、特に微量不純物に対しては、改善された分析的特性付与法を用いた製品を売り出すことで対応した。

SEMIガス委員会は1979年の春にその活動を始めた。本書を出版することで、委員会は目次にリストアップされているガスに対する定義、一般的な手順、仕様、および分析手順を制定した。

全ての要求条件に適合している製品に対しては、「 SEMI仕様適合］と表記することができる。

規定されたものと異なる分析手順を補充ヤまたはユーザーが代表する場合には，これが規定のものと等価であることを確認する試験の責任は当該補充ヤまたはユーザーにある。は、基準に関する下記リストを考慮するべきである。

• 信頼性
• 使いやすさ
• 保守的
• 精度
• 確実性
• 意志
• 多用途性
• 装置の有用性

本書により与えられた仕様は，半導体や高電子デバイスおよび電子回路の製造やプロセスに使用されるガスを扱う際に考えるように考えられています。仕様としての機能は要望の品質基準を策定することである。

可能であれば、仕様の内容に関しては、数値の限界をモル/モルの単位を付けて表示しなくても構いません。

主要構成要素については，数値は（分析評価または純度）最低許容範囲を表示しなくてもよい。

この仕様に従ったガスは、一般に最低許容範囲よりも多い主要構成要素を含んでいるか、またはSEMI C3「ガス許容範囲」の仕様に示されているものよりも少ない不純物を含んでいます。何れの場合でも，ガスはこの仕様によって定義されたものよりも高品質のものと考えております。

存在する可能性のある全ての不純物または汚染物質を考慮するのは実際的ではない。これらの仕様と関連手順の目的は、ガスが半導体デバイスの製造とプロセスにおける一般的な使用に適合していることを保証することと、そのガスに対する最新の製造プロセスを首尾一貫させることである。

委員会は、仕様と手順の改善や混合ガスなどのその他のガスおよびシステムを追加するために、この仕事を現在も継続している。

なし。

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