{"product_id":"m07800-semi-m78-量産時における130nmから22nm世代のパターンなしシリコンウェーハ上のナノトポグラフィー決定に関するガイド","title":"M07800 - SEMI M78 - 量産時における130nmから22nm世代のパターンなしシリコンウェーハ上のナノトポグラフィー決定に関するガイド","description":"\u003cp class=\"Indent\" style=\"MARGIN: 0in 21pt 0pt\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e本スタンダードは，\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003eglobal Silicon Wafer Committee\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003eで技術的に承認されている。現版は\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e2010\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e年\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e8\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e月\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e27\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e日，\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003eglobal Audits and Reviews Subcommittee\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003eにて発行が承認された。\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e2010\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e年\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e10\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003e月に\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003ewww.semi.org\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial\"\u003eで入手可能となる。\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial\"\u003e\u003c?xml:namespace prefix = o ns = \"urn:schemas-microsoft-com:office:office\" \/\u003e\u003co:p\u003e\u003c\/o:p\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp class=\"MsoNormal\" style=\"MARGIN: 0in 0in 0pt\"\u003e\u003cspan style=\"FONT-SIZE: 10pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: Arial; mso-fareast-language: JA\"\u003e\u003co:p\u003e \u003c\/o:p\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/p\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: 3pt 0in; mso-list: none; tab-stops: 35.0pt\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003eウェーハ表表面の規定距離に亘る高さ変動は，選定された工程段階に許容できるウェーハを保証するために適切に制御される必要がある。ナノトポグラフィー要因は，\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e2003\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e年以来，国際半導体技術ロードマップ（ＩＴＲＳ）に組み込まれている。化学機械的平坦化\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e(CMP)\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e工程前のウェーハ表面ナノトポグラフィーは，回路性能，工程原価や歩留に負の帰結の可能性を持つ\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003eCMP\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e後の膜厚変動を生ずる。ナノトポグラフィー特性は，ある領域内の高さ変動により特徴付けられ，その空間波長領域により同様な高さの他の特性から区別される。裏表面ナノトポグラフィーも選定された工程段階のウェーハ適性に影響を与える。このガイドは，ナノトポグラフィーの表または裏表面測定のどちらにでも適用できる。\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e\u003co:p\u003e\u003c\/o:p\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/h2\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: 3pt 0in; mso-list: none; tab-stops: 35.0pt\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e\u003co:p\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/o:p\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/h2\u003e \u003ch2 style=\"MARGIN: 3pt 0in; mso-list: none; tab-stops: 35.0pt\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003eこのガイドは，手順とナノトポロジーデータを生成する際に，異なる可能性の選択肢を選ぶための決定系図\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e(\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e図\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e 1)\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: 'MS PMincho'; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial; mso-bidi-font-family: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003eを備えている。この計算に使われる重要な選択肢は，報告されたデータを規定するために明記される。このガイドは，シリコンウェーハの交易のために使用することを意図するものであり，選択肢のより広い範囲やデータ報告形式が適切になる工程開発を意図するものではない。\u003cspan lang=\"JA\" style=\"FONT-FAMILY: Arial; mso-bidi-font-size: 10.0pt\"\u003e\u003co:p\u003e\u003c\/o:p\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/h2\u003e\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\u003cb\u003eReferenced SEMI Standards\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003e\u003cfont\u003eSEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers \u003cbr\u003eSEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System \u003cbr\u003eSEMI M43 — Guide for Reporting Wafer Nanotopography \u003cbr\u003eSEMI M49 — Guide for Specifying Geometry Measurement Equipment for Silicon Wafers for the 130 nm to 22 nm Technology Generations \u003cbr\u003eSEMI M59 — Terminology for Silicon Technology M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers \u003cbr\u003eSEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System \u003cbr\u003eSEMI M43 — Guide for Reporting Wafer Nanotopography \u003cbr\u003eSEMI M49 — Guide for Specifying Geometry Measurement Equipment for Silicon Wafers for the 130 nm to 22 nm Technology Generations \u003cbr\u003eSEMI M59 — Terminology for Silicon Technology \u003cbr\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M78-1110 - Superseded","offer_id":40234356277315,"sku":"9751","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/MVolume_967de629-746e-440e-aa8d-e14eb5ea439a.png?v=1776702026","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/en-jp\/products\/m07800-semi-m78-%e9%87%8f%e7%94%a3%e6%99%82%e3%81%ab%e3%81%8a%e3%81%91%e3%82%8b130nm%e3%81%8b%e3%82%8922nm%e4%b8%96%e4%bb%a3%e3%81%ae%e3%83%91%e3%82%bf%e3%83%bc%e3%83%b3%e3%81%aa%e3%81%97%e3%82%b7%e3%83%aa%e3%82%b3%e3%83%b3%e3%82%a6%e3%82%a7%e3%83%bc%e3%83%8f%e4%b8%8a%e3%81%ae%e3%83%8a%e3%83%8e%e3%83%88%e3%83%9d%e3%82%b0%e3%83%a9%e3%83%95%e3%82%a3%e3%83%bc%e6%b1%ba%e5%ae%9a%e3%81%ab%e9%96%a2%e3%81%99%e3%82%8b%e3%82%ac%e3%82%a4%e3%83%89","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}