{"product_id":"m07600-semi-m76-開発用直径450-mmシリコン単結晶鏡面ウェーハの仕様","title":"M07600 - SEMI M76 - 開発用直径450 mmシリコン単結晶鏡面ウェーハの仕様","description":"\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cspan lang=\"EN\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003eNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PGothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PGothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e免責事項：　この\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eSEMI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PGothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PGothic\"\u003eスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003eSEMI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS Gothic,‚l‚r ƒSƒVƒbƒN\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS Gothic,‚l‚r ƒSƒVƒbƒN\"\u003eスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e\u003c\/p\u003e \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本スタンダードは，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eglobal Silicon Wafer Committee\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eで技術的に承認されている。現版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2010\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e4\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e月\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e30\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e日，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eglobal Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eにて発行が承認された。\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2010\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e6\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e月に\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003ewww.semi.org\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eで入手可能となる。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eこの仕様が適用される開発用ウェーハは，直径\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e単結晶シリコンウェーハ上に高集積\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eIC\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eを生産するのに必要な製造プロセス，製造装置および評価装置の研究開発に使うことを意図している。直径\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eデバイス用（プライム）ウェーハの形状仕様をサポートするのに必要な測定法や測定技術を築くためにも使える。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e開発に必要とされる\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e単結晶シリコン鏡面ウェーハの形状と結晶方位をこの仕様は対象とする。本文書は，デバイス用ウェーハの形状仕様およびテクノロジーレベルに固有なガイドラインに取って代わられるべきである。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e完全な購入仕様には，それを測定する評価法と共に物理特性を追加する必要がある。もし測定装置がない場合には，合否条件は，サプライヤと顧客の間での合意が必要である。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eいくつかのプロセス装置とユニットプロセスを開発するのに使うウェーハの仕様を装置メーカ他が決めるのを支援するガイダンスがこの仕様には含まれている。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eウェーハキャリア，ロードポート，自動材料搬送システム（\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eAMHS\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e）およびロボットなどの\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e半導体装置開発に使われる直径\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e450 mm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eメカニカルハンドリングウェーハの仕様は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eSEMI M74\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003eとして既に出版されている。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eこの仕様は，生産用ウェーハ仕様としては意図していない。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e参考のために，一般にメトリックと呼ばれる\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eSI (System International\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,MS Gothic\"\u003e）単位を使われなければならない。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003eReferenced SEMI Standards\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003e\u003cfont\u003eSEMI E45 — Test Method for the Determination of Inorganic Contamination from Mini Environments Using Vapor Phase Decomposition-Total Reflection X-Ray Spectroscopy (VPD\/TXRF), VPD-Atomic Absorption Spectroscopy (VPD\/AAS), or Inductively Couples Plasma-Mass Spectroscopy (VPD\/ICP-MS)\u003cbr\u003eSEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI M12 — Specification for Serial Alphanumeric Marking of the Front Surface of Wafers\u003cbr\u003eSEMI M13 — Specification for Alphanumeric Marking of Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System\u003cbr\u003eSEMI M33 — Test Method for the Determination of Residual Surface Contamination on Silicon Wafers by Means of Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy (TXRF)\u003cbr\u003eSEMI M43 — Guide for Reporting Wafer Nanotopography\u003cbr\u003eSEMI M59 — Terminology for Silicon Technology\u003cbr\u003eSEMI M67 — Practice for Determining Wafer Near-Edge Geometry from a Measured Thickness Data Array Using the ESFQR, ESFQD and ESBIR Metrics\u003cbr\u003eSEMI M68 — Practice for Determining Wafer Near-Edge Geometry from a Measured Height Data Array Using a Curvature Metric, ZDD\u003cbr\u003eSEMI M70 — Practice for Determining Wafer-Near-Edge Geometry Using Partial Wafer Site Flatness\u003cbr\u003eSEMI M73 — Test method for Extracting Relevant Characteristics from Measured Wafers Edge Profiles\u003cbr\u003eSEMI M74 — Specification for 450 mm Diameter Mechanical Handling Polished Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF26 — Test Methods for Determining the Orientation of a Semiconductive Single Crystal\u003cbr\u003eSEMI MF42 — Test Methods for Conductivity Type of Extrinsic Semiconducting Materials\u003cbr\u003eSEMI MF81 — Test Method for Measuring Radial Resistivity Variation on Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF523 — Practice for Unaided Visual Inspection of Polished Silicon Wafer Surfaces\u003cbr\u003eSEMI MF533 — Test Method for Thickness and Thickness Variation of Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF534 — Test Method for Bow of Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF673 — Test Methods for Measuring Resistivity of Semiconductor Wafers or Sheet Resistance of Semiconductor Films with a Noncontact Eddy-Current Gage\u003cbr\u003eSEMI MF951 — Test Method for Determination of Radial Interstitial Oxygen Variation in Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF1152 — Test Method for Dimensions of Notches on Silicon Wafers\u003cbr\u003eSEMI MF1188 — Test Method for Interstitial Atomic Oxygen Content of Silicon by Infrared Absorption with Short Baseline\u003cbr\u003eSEMI MF1366 — Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry\u003cbr\u003eSEMI MF1389 — Test Method for Photoluminescence Analysis of Single Crystal Silicon for III-V Impurities\u003cbr\u003eSEMI MF1390 — Test Method for Measuring Warp on Silicon Wafers by Automated Noncontact Scanning\u003cbr\u003eSEMI MF1451 — Test Method for Measuring Sori on Silicon Wafers by Automated Noncontact Scanning\u003cbr\u003eSEMI MF1530 — Test Method for Measuring Flatness, Thickness, and Thickness Variation on Silicon Wafers by Automated Noncontact Scanning\u003cbr\u003eSEMI MF1617 — Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, and Potassium on Silicon and Epi Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry\u003cbr\u003eSEMI MF1619 — Test Method for Measurement of Interstitial Oxygen Content of Silicon Wafers by Infrared Absorption Spectroscopy with p-Polarized Radiation Incident at the Brewster Angle\u003cbr\u003eSEMI MF1809 — Guide for Selection and Use for Etching Solutions to Delineate Structural Defects in Silicon\u003cbr\u003eSEMI MF2074 — Guide for Measuring Diameter of Silicon and Other Semiconductor Wafers\u003cbr\u003eSEMI T3 — Specifications for Wafer Box Labels\u003cbr\u003eSEMI T7 — Specification for Back Surface Marking of Double-Side Polished Wafers with a Two-Dimensional Matrix Code Symbol\u003cbr\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/span\u003e\u003c\/font\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M76-0710 - 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