{"product_id":"m05300-semi-m53-パターンのない半導体ウェーハ表面上に証明済み手法で付着した単分散標準粒子を用いた走査型表面検査システム較正の作業方法","title":"M05300 - SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面上に証明済み手法で付着した単分散標準粒子を用いた走査型表面検査システム較正の作業方法","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e免責事項：\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e　このSEMI\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003eSEMI\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003eスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本スタンダードは，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSilicon Wafer Global Technical Committee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで技術的に承認されている。現版は2010\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月20\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e日，global Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにて発行が承認された。2010\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年2\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月にwww.semi.org\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで入手可能となる。初版は2003\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年3\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月発行，前版は2009\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年11\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月に発行された。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法では，パターンのない鏡面，エピタキシャル，薄膜生成された半導体表面上に付着された\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003ePSL\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e（ポリスチレンラテックス）粒子のサイズを走査型表面検査システム（以下SSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e）が正確に決定できるように，SSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの暗視野検出器チャンネルの較正について記述する。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本較正の目的は，製造者およびモデルの異なる\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eが特定の局所光散乱体（LLS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e）に同じ光散乱強度の等価光散乱 (LSE) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e直径を割り当てることを，保証することである。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法は，材質同定，真の寸法，形態が未知の実表面欠陥を報告する手段として，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSEMI M59\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに規定されたように，LSE\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e直径の使用を定義する。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法では，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの性能を定量化するための基礎を提供する。また，SSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e性能定量化は，関連スタンダードの中で例えば感度，再現性，キャプチャレート等に影響するパラメータとして関係している。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e \u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eこの作業方法では，次の事項を取り扱う。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e標準粒子が付着される較正基準半導体ウェーハの表面およびその他の特性に対する要求条件\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e (¶ 8.1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e参照）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e標準粒子付着に適した標準粒子のサイズ分布要求条件も含め，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eを較正するための標準粒子の適切で証明済み付着の選択。ただし，付着手法は含まれない (¶ 8.2\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e参照）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e応答曲線の変動があるが故に単調ではない，モデルで予測した散乱データを使用した較正曲線の生成。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eモデルで予測した散乱データを使用した単調な較正曲線の生成。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこれは，主として\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSEMI M1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで指定されている幾何学的特性を有する研磨シリコンウェーハ局所的光散乱体 (LLS) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの検出に使用されるSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの較正に使用するために開発されたが，適切な基準ウェーハが採用されるという条件で，この作業方法はパターンのない他の半導体表面のLLS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの検出に使用されるSSIS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにも適用できる。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法は，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eLSE\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e値を使用してPSL\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e球以外のLLS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eのサイズを決定する方法を定義する意図はまったくない (¶ 3.1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eを参照）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eこの作業方法は，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSEMI M52\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに記載されている要求条件をサポートする。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e付属書\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eでは，限定された生産用途に使用できるシングルポイント較正について説明するが，SEMI M52\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに記載されている要求条件はサポートしていない。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e付属書\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e2\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eではPSL\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eではない標準粒子の屈折率を決める方法について説明している。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003eReferenced SEMI Standards\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003eSEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers\u003cbr\u003e SEMI M12 — Specification for Serial Alphanumeric Marking of the Front Surface of Wafers\u003cbr\u003e SEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System\u003cbr\u003e SEMI M50 — Test Method for Determining Capture Rate and False Count Rate for Surface Scanning Inspection Systems by the Overlay Method\u003cbr\u003e SEMI M52 — Guide for Specifying Scanning Surface Inspection Systems for Silicon Wafers for the 130 nm, 90 nm, 65 nm, and 45 nm Technology Generations\u003cbr\u003e SEMI M58 — Test Method for Evaluating DMA Based Particle Deposition Systems and Processes\u003cbr\u003e SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology\u003cbr\u003e \u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M53-0310 - 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