{"product_id":"m05100-semi-m51-シリコンウェーハ評価のためのsio2の即時絶縁破壊特性tzdbの試験方法","title":"M05100 - SEMI M51 - シリコンウェーハ評価のためのSiO2の即時絶縁破壊特性（TZDB）の試験方法","description":"\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本スタンダードは，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eglobal Silicon Wafer Technical Committee\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eで技術的に承認されている。現版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2012\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e8\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e30\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e日，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eglobal Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eにて発行が承認された。\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2012\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e10\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月に\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003ewww.semiviews.org\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eおよび\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e www.semi.org\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eで入手可能となる。初版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2002\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e7\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月発行。前版は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2003\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e3\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e月発行。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e注意：　本文書は，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e2012\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e年，全面的に改訂された。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本テスト方法は，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGate Oxide Integrity \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e（\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e）によるウェーハ品質評価法に関するものである。\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eはシリコン基板中に存在する\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eCOP\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eを検出するために用いられてきたが，よく知られているように表面に存在する欠陥検出の画で非常に高感度である。そのため\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e測定は，ウェーハメーカやデバイスメーカにおいて幅広く用いられている手法である。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e即時絶縁破壊特性（\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTZDB\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e）は，酸化膜欠陥モード分類を行う\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e測定方法である。\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eSEMIM60\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eには，経時絶縁破壊特性（\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTDDB\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e）による\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e評価法の記述がある。\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTDDB\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eは酸化膜の信頼性を評価するのに対して，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTZDB\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eは酸化膜欠陥のモード分類を行い，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e評価手法として重要な方法である。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本テスト方法は，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eTZDB\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e法を用いたウェーハ\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e品質評価法に関するものである。本テストスタンダードでは，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eMetal-Oxide-Semiconductor \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e（\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eMOS\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e）キャパシタ作製，電気特性評価，解析そしてデータ取りまとめについて記載されている。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003eMOS\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eキャパシタには，熱酸化によるゲート酸化膜を用い厚さ範囲は\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e20-25nm\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e程度である。また，電極材料としては，多結晶シリコンを採用した。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e酸素析出物も絶縁破壊耐圧劣化の原因となるが\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003e \u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e，購入直後のウェーハでは，通常酸素析出物はほとんど含まれておらず，\u003cfont size=\"2\" face=\"Arial\"\u003eGOI\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"MS PMincho,‚l‚r ‚o–¾’©\"\u003eへの影響はほとんど無い。従って，本スタンダードでの議論の対象としない。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003eReferenced SEMI Standards\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003eSEMI C3.6 — Specification for Phosphine (PH\u003csub\u003e3\u003c\/sub\u003e) in Cylinders 99.98% Quality\u003cbr\u003e SEMI C3.55 — Specification for Silane (SiH\u003csub\u003e4\u003c\/sub\u003e), Bulk, 99.994% Quality\u003cbr\u003e SEMI C21 — Specifications and Guideline for Ammonium Hydroxide\u003cbr\u003e SEMI C27 — Specifications and Guidelines for Hydrochloric Acid\u003cbr\u003e SEMI C28 — Specifications for Hydrofluoric Acid \u003cbr\u003e SEMI C30 — Specifications for Hydrogen Peroxide\u003cbr\u003e SEMI C35 — Specifications and Guideline for Nitric Acid \u003cbr\u003e SEMI C38 — Guide for Phosphorus Oxychloride\u003cbr\u003e SEMI C41 — Specifications and Guidelines for 2-Propanol\u003cbr\u003e SEMI C44 — Specifications and Guidelines for Sulfuric Acid\u003cbr\u003e SEMI C54 — Specifications and Guidelines for Oxygen\u003cbr\u003e SEMI C58 — Specifications and Guidelines for Hydrogen\u003cbr\u003e SEMI C59 — Specifications and Guidelines for Nitrogen\u003cbr\u003e SEMI F63 — Guide for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing\u003cbr\u003e SEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers\u003cbr\u003e SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology\u003cbr\u003e SEMI M60 — Test Method for Time Dependent Dielectric Breakdown Characteristics of SiO\u003csub\u003e2\u003c\/sub\u003e Films for Si Wafer Evaluation\u003cbr\u003e SEMI MF1771 — Test Method for Evaluating Gate Oxide Integrity by Voltage Ramp Technique\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI M51-1012 - Current","offer_id":40234316005443,"sku":"4864","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"SEMI M51-0303 - 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