{"product_id":"e04500-semi-e45-気相分解-全反射x線分光法-vpd-txrf-気相分解-原子吸収分光法vpd-aas-気相分解-誘導結合プラズマ質量分光法-vpd-icp-ms-を使用したミニエンバイロメントからの無機汚染分析のための試験方法","title":"E04500 - SEMI E45 - 気相分解－全反射X線分光法 (VPD\/TXRF)，気相分解－原子吸収分光法(VPD\/AAS)，気相分解－誘導結合プラズマ質量分光法 (VPD\/ICP-MS) を使用したミニエンバイロメントからの無機汚染分析のための試験方法","description":"\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e免責事項：\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e　このSEMI\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eSEMI\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本スタンダードは，\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e Metrics Global Technical Committee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで技術的に承認されている。現版は2001\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年8\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月27\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e日，global Audits and Reviews Subcommittee\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eにて発行が承認された。2001\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年9\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月にwww.semi.org\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで。初版は1995\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年発行，前版は2001\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e年3\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e月発行。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eNOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本試験方法は，ミニエンバイロメントによる無機質汚染レベルを決めるための分析手順を提供するものである。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e本文書は，無機不純物に関係する。これら不純物は，原子，分子またはパーティクルとして存在するかどうかにかかわらず，金属汚染物を含む。分析する金属の数は，実用的な観点からミニエンバイロメントを迅速に特性付けるためにナトリウム\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e (Na)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，カルシウム (Ca)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，鉄 (Fe)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，銅 (Cu) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの4\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e種類に限定する。Na\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，Ca\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，Fe\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eは人体源 (Na)\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003e，環境 (Ca) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eまたは装置と腐食作用 (Fe) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eからの汚染に関して非常に有害な不純物を代表するが，Cu\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eは半導体製造において益々重要性を増しているため分析される。さらに，これら元素は，充分に低い検出限界で容易に分析できる。追加の元素を定量するのは，この試験方法の使用者次第である。回路およびデバイスに不適当なウェーハ表面金属汚染元素を表1 (SEMI M1\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに基づく) \u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eに示している。シリコンウェーハ表面の無機汚染は, VPD\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで収集される。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e　\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e\u003cfont size=\"2\"\u003e\u003cfont face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003eCa\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eおよびFe\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eの定量には，その検出限界が十分低いのでVPD\/TXRF\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eが使用される。Na\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eおよびCu\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eは，VPD-GFAAS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eまたはVPD\/ICP-MS\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\"\u003eで定量される。これらすべての分析方法は，表面清浄度の特性付けを行うために広く使用されている。\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cfont size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cfont lang=\"JA\"\u003e\u003cfont lang=\"JA\" size=\"2\" face=\"Microsoft Sans Serif\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e本測定技術は，ミニエンバイロメントに対するプロセスステップの影響をチェックするためにも使用できる。\u003c\/p\u003e\n\u003cfont face=\"Arial\"\u003e \u003cp dir=\"ltr\" align=\"left\"\u003e\u003c\/p\u003e\n\u003cp dir=\"ltr\" align=\"justify\"\u003e　\u003c\/p\u003e\n\u003cb\u003eReferenced SEMI Standards\u003c\/b\u003e\u003cbr\u003e\u003cp\u003eSEMI C28 — Specifications and Guidelines for Hydrofluoric Acid\u003cbr\u003e SEMI C35 — Specifications and Guidelines for Nitric Acid\u003cbr\u003e SEMI E19 — Standard Mechanical Interface (SMIF)\u003cbr\u003e SEMI M1 — Specification for Polished Monocrystalline Silicon Wafers\u003cbr\u003e\u003c\/p\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e\u003c\/font\u003e","brand":"semi.org","offers":[{"title":"SEMI E45-1101 (Reapproved 0307) - Inactive","offer_id":40234321346627,"sku":"5881","price":38100.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0567\/3402\/3747\/files\/EVolume_5cb65c8a-6aa4-4837-beb2-0aa5976d719f.png?v=1776702308","url":"https:\/\/store-dev2.semi.org\/en-jp\/products\/e04500-semi-e45-%e6%b0%97%e7%9b%b8%e5%88%86%e8%a7%a3-%e5%85%a8%e5%8f%8d%e5%b0%84x%e7%b7%9a%e5%88%86%e5%85%89%e6%b3%95-vpd-txrf-%e6%b0%97%e7%9b%b8%e5%88%86%e8%a7%a3-%e5%8e%9f%e5%ad%90%e5%90%b8%e5%8f%8e%e5%88%86%e5%85%89%e6%b3%95vpd-aas-%e6%b0%97%e7%9b%b8%e5%88%86%e8%a7%a3-%e8%aa%98%e5%b0%8e%e7%b5%90%e5%90%88%e3%83%97%e3%83%a9%e3%82%ba%e3%83%9e%e8%b3%aa%e9%87%8f%e5%88%86%e5%85%89%e6%b3%95-vpd-icp-ms-%e3%82%92%e4%bd%bf%e7%94%a8%e3%81%97%e3%81%9f%e3%83%9f%e3%83%8b%e3%82%a8%e3%83%b3%e3%83%90%e3%82%a4%e3%83%ad%e3%83%a1%e3%83%b3%e3%83%88%e3%81%8b%e3%82%89%e3%81%ae%e7%84%a1%e6%a9%9f%e6%b1%9a%e6%9f%93%e5%88%86%e6%9e%90%e3%81%ae%e3%81%9f%e3%82%81%e3%81%ae%e8%a9%a6%e9%a8%93%e6%96%b9%e6%b3%95","provider":"SEMI Dev 2","version":"1.0","type":"link"}